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精密涂布工藝及裝備

威亮開(kāi)發(fā)各種精密涂布工藝,包括浸漬提拉、微凹涂布、狹縫涂布、旋涂、超聲波噴涂等,可根據(jù)客戶(hù)需求優(yōu)化工藝包,并進(jìn)行工藝包打包轉(zhuǎn)移。

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相關(guān)產(chǎn)品

1、浸涂(浸漬提拉法)工藝及裝備

 

    浸漬提拉法是將基材垂直浸入鍍膜溶液(溶膠)中浸漬,然后將基材從溶液中垂直低速提拉起來(lái),并使附著的液膜在空氣(氣相)中凝膠的方法。

1) 將基材垂直浸入鍍膜溶液(溶膠)中浸漬。

2)利用鍍膜溶液的粘度、表面張力和重力之間的相互作用開(kāi)始提拉,提拉過(guò)程必須保證液面無(wú)振動(dòng),且基材垂直、勻速、平穩(wěn)、連續(xù)上升,從而確保在基材表面形成連續(xù)、均勻的薄膜。

3) 基材的提拉速度與鍍膜溶液的粘度和附著液向下流動(dòng)的重力之間的關(guān)系,控制著鍍膜的厚度。

4) 形成均勻的薄膜,并完成“濕凝膠膜”向“干凝膠膜”的轉(zhuǎn)變。”干凝膠膜”經(jīng)過(guò)進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。

 

2、微凹涂布工藝及裝備

 

    微凹輥涂布方式的開(kāi)發(fā)是基于市場(chǎng)對(duì)于薄層涂布均勻需求的提高。這種新的涂布方式機(jī)構(gòu)簡(jiǎn)單,工藝重復(fù)性好并且可靠。

    微凹輥涂布采用吻涂的方式,而普通凹版涂布基本上都有背輥,背輥的作用是使基材與凹版輥更好的接觸,使涂布液更多的轉(zhuǎn)移。但是由于背輥產(chǎn)生了壓力,當(dāng)壓力不當(dāng)時(shí),基材容易產(chǎn)生皺紋等問(wèn)題,從而產(chǎn)生涂布不均勻現(xiàn)象。微凹版涂布使用吻涂,一些潛在的問(wèn)題就沒(méi)有了。

 -微凹輥的應(yīng)用-

1.光學(xué)膜:光學(xué)膜涉及范圍較廣,應(yīng)用微凹輥案例較多2.鋰電池隔膜及極片的涂布:早期主要使用φ50mm的微凹輥,目前普遍使用φ80-100mm的微凹輥

2.離型膜:離型膜尤其是光學(xué)級(jí)別的離型膜,主要應(yīng)用φ50mm的微凹輥。

3.其他行業(yè):ITO、電化鋁等行業(yè)均有少量應(yīng)用微凹輥的案例。

3、狹縫涂布工藝及裝備

 

狹縫模具式涂布機(jī)示例

   “模具涂布”,是一項(xiàng)利用塑料薄膜擠壓成型技術(shù)的涂裱技術(shù)。通過(guò)讓涂裱 液穿過(guò)“模具”,產(chǎn)生均勻的液膜,再使液膜接觸基材進(jìn)行涂裱。該方式 通過(guò)壓力,將密閉在容器中的涂裱液供應(yīng)到“模具”中,因此涂裱液不會(huì) 受到空氣的影響,可實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的涂裱。

作為代表性模具式涂布機(jī)的“狹縫模具式涂布機(jī)”,采用在設(shè)計(jì)上能夠使涂裱液在橫向上均勻分布的模具,通過(guò)在被稱(chēng)為“模唇”的模具頂端與支撐輥之間產(chǎn)生斷層,實(shí)現(xiàn)涂裱膜的平滑化。

    近年來(lái),隨著對(duì)多層同時(shí)進(jìn)行涂“多層狹縫模具”等裝置的高度化發(fā)展,高效涂成為了可能。

 

4、超聲波噴涂工藝及裝備

 

    超聲波噴涂方式的噴嘴頂端設(shè)有“霧化片(霧化面)”。隨著超聲波的振動(dòng),涂液會(huì)在霧化片上被抹開(kāi),開(kāi)始形成波動(dòng)。隨后,將超聲波的輸出功率增大到超出表面張力的程度,就會(huì)形成霧狀液滴并飛散。

    由于形成的液滴微細(xì)均勻,適用于局部的均勻涂布。由于幾乎不會(huì)發(fā)生液滴的反彈及多余的飛濺,具有可將材料損耗降至最低的優(yōu)點(diǎn)。

    根據(jù)不同的目的,可以選用各種長(zhǎng)度、大小、形狀的噴嘴。通過(guò)設(shè)定必要的流量及振動(dòng)頻率,噴涂均勻的液滴,可以控制涂布膜厚及膜質(zhì)。

    具體用途包括硬涂層及防止反射、水 / 油隔離涂布、電子部件的絕緣膜及導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體的光阻劑等。

   可以噴涂干膜為納米級(jí)厚度的涂層,精度可達(dá)±5%。

 

5、旋涂工藝及裝備

 

   “旋涂機(jī)”是一種利用旋轉(zhuǎn)離心力的涂布裝置,也被稱(chēng)為“旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)”。對(duì)于平滑的被涂物(工件),能夠形成薄且均勻的涂層。旋涂機(jī)的用途非常廣泛,代表性用途包括半導(dǎo)體晶圓的表面處理、光阻涂布等流程類(lèi)工序,以及光學(xué)媒介涂膜、鏡頭底劑及調(diào)光液的涂布等。

    將涂液滴落在被涂物(工件)的中心,進(jìn)行高速旋轉(zhuǎn)。加速旋轉(zhuǎn)會(huì)對(duì)涂液施加離心力,使涂液擴(kuò)散到整個(gè)表面并成膜。涂布膜厚取決于涂液的粘度、 被涂物的轉(zhuǎn)速、旋轉(zhuǎn)啟動(dòng)加速度、與干燥速度相關(guān)的排氣。

    旋涂的原理是依靠旋轉(zhuǎn)離心力將多余的涂液甩離被涂物,因此實(shí)際成膜的液量要少于滴落的液量,存在會(huì)導(dǎo)致材料損耗的缺點(diǎn)。

    為了通過(guò)排氣控制干燥速度,防止涂液飛濺到設(shè)備外部,避免異物混入,旋轉(zhuǎn)體及滴落的機(jī)構(gòu)通常都會(huì)被收納在箱體中,或采用涂裱時(shí)關(guān)閉上蓋的設(shè)計(jì)式樣。

    設(shè)備的基本原理在近幾十年并未改變,但適用于被涂物不同尺寸、重量、材質(zhì)的裝置,轉(zhuǎn)速(速度)控制、自動(dòng)滴落之類(lèi)的規(guī)格功能等,都實(shí)現(xiàn)了更加多樣化的發(fā)展。

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